真空鍍膜系統主要構成部分一

2020-11-12 16:35:48

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真空室。

涂(tu)布設備主要包括連(lian)續涂(tu)布生產線和單室(shi)涂(tu)布機兩種(zhong)形式。表(biao)面進行不銹鋼(gang)材料制(zhi)造、氬弧(hu)焊和化學拋(pao)光處理。各種(zhong)規格的法蘭接口焊接在真空室(shi)組件(jian)上(shang)。

2.真空獲得部分。

在真空技術中，真空獲得部分是一個重要的部分。真空不是一個真空設備和方法(fa)可以達到的，必須同時使(shi)用(yong)幾個泵，如機械泵、羅茨泵和分子(zi)泵系(xi)統。

3.真空測量部分。

真空鍍膜系統

真空系統的真空測量部分是測量真空室中的壓力。像真空泵一樣，沒(mei)有真空(kong)計(ji)可以測(ce)量整個真空(kong)范圍，所以人們(men)根據不同的原(yuan)理和要求制作(zuo)了(le)多種真空(kong)計(ji)。如(ru)熱(re)電偶表、電離表、皮拉尼表等。

4.電源部分。

目標電(dian)源(yuan)主(zhu)要包括DC電(dian)源(yuan)、中頻電(dian)源(yuan)、脈(mo)沖電(dian)源(yuan)和(he)射頻電(dian)源(yuan)。常見(jian)的電(dian)源(yuan)廠商(shang)有AE、ADL、Hottinger等。

5.工藝氣體輸入系(xi)統。

工藝氣體(ti)，如氬(氬)、氪(ke)(氪(ke))、氮(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫(H2)、氧(O2)等。通常由氣瓶(ping)供應，穿過氣體(ti)減壓(ya)閥(fa)(fa)(fa)、氣體(ti)截止(zhi)閥(fa)(fa)(fa)、管(guan)道、氣體(ti)流(liu)量計、電磁閥(fa)(fa)(fa)和壓(ya)電閥(fa)(fa)(fa)，然后進入真(zhen)空室。這種輸氣系統(tong)的(de)優(you)點是(shi)(shi)管(guan)道簡(jian)單明了(le)，容易維修或(huo)更換(huan)氣瓶(ping)。涂(tu)(tu)布(bu)機互不影響(xiang)。也有多臺涂(tu)(tu)布(bu)機共用(yong)一(yi)套(tao)氣瓶(ping)的(de)情況，在(zai)一(yi)些大型(xing)涂(tu)(tu)布(bu)車間可能會(hui)看到。其(qi)優(you)點是(shi)(shi)可以減少氣瓶(ping)的(de)消(xiao)耗，統(tong)一(yi)規劃布(bu)局。缺點是(shi)(shi)接頭數(shu)量增加了(le)漏(lou)氣的(de)幾率。而且(qie)涂(tu)(tu)布(bu)機之間會(hui)相互干擾，一(yi)臺涂(tu)(tu)布(bu)機的(de)管(guan)道會(hui)發生(sheng)泄漏(lou)，可能會(hui)影響(xiang)其(qi)他涂(tu)(tu)布(bu)機的(de)產品質量。此外，更換(huan)氣瓶(ping)時，必(bi)須確保所有機器都處于非使(shi)用(yong)狀態。