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在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此，在評估薄膜樣品的性能時，有必要測試不同厚度下薄膜樣品的性能。在真空鍍膜的情況下，往往需要多次準備樣品。但是這么多次制備樣品有兩個問題:一，對于不同時間生長的樣品，儀器的狀態是不同的，所以影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，在真空鍍膜實驗中加載樣品時，再次獲得真空是非常耗時的。和檢測成本增加。
真空鍍膜是一種需要在高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。在真空鍍膜過程中，磁控濺射靶在發射過程中會產生高溫，使發射變形，所以它有水套來冷卻發射。為了保證水套內的水溫不受環境和自然氣溫的影響，通常需要使用冷水機對真空鍍膜機進行冷卻。
使用電子鍍膜時，在鐘罩外圍要放一塊鋁板。觀察窗的玻璃應采用鉛玻璃，觀察時應佩戴鉛玻璃眼鏡，防止x光對人體造成傷害。2.在離子轟擊和蒸發過程中，要特別注意高壓線接頭，不要觸碰，以防觸電。1.真空鍍膜機正常運行時，必須先打開水管，工作中要注意水壓。
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