真空鍍膜的作用主要是給鍍零件的表面高度的金屬光澤和鏡像效果,尤其是對汽車燈罩,它有一個非常重要的聚光效果,其次給屏障性能優良的涂料層,提供良好的電磁屏蔽和導電性的影響。根據制備氣相金屬的方法和鍍膜的沉積方法，將真空鍍膜分為熱蒸發鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中磁控濺射法具有涂層層與基體結合力強、涂層致密均勻等優點，具有較大的技術優勢。真空鍍膜技術是(shi)指(zhi)在(zai)真空(kong)環(huan)境下，將某種金屬(shu)(shu)或金屬(shu)(shu)化(hua)(hua)合物(通常為(wei)非金屬(shu)(shu))以蒸(zheng)汽的形式沉(chen)積在(zai)材(cai)料的表面。它是(shi)一種物理氣(qi)相(xiang)沉(chen)積過(guo)程，因為(wei)涂層往往是(shi)鋁(lv)、錫、銦(yin)等(deng)金屬(shu)(shu)的薄(bo)膜，所以也(ye)稱為(wei)真空(kong)金屬(shu)(shu)化(hua)(hua)。

磁控濺射是一種物理氣相沉積方法，用于制備各種材料的薄膜，如金屬、半導體和絕緣體。在實際的鍍膜過程中，沉積速率、濺射功率、濺射時間、靶材與基體之間的距離、工作壓力等都會影響到鍍膜的質量和厚度。在磁控濺射鍍膜中，隨著使用次數的增(zeng)加，靶材(cai)被消耗，靶基距離增(zeng)大(da)。

在其(qi)他參數不(bu)變(bian)的(de)情況下，被涂(tu)膜(mo)逐(zhu)漸(jian)不(bu)能滿足要求。磁(ci)場(chang)的(de)均勻性影響薄膜(mo)的(de)均勻性。如果磁(ci)場(chang)不(bu)對稱(cheng)，鍍層(ceng)的(de)位置就會改變(bian)。磁(ci)控濺(jian)射是(shi)20世(shi)紀70年(nian)代在陰(yin)極濺(jian)射的(de)基礎上(shang)發展(zhan)起來的(de)一種新型濺(jian)射鍍膜(mo)方法(fa)。由于它有效地克(ke)服(fu)了陰(yin)極濺(jian)射率(lv)低(di)和基片因電子而(er)溫度升高的(de)缺陷(xian)，得到了迅(xun)速發展(zhan)和廣(guang)泛應用。