真空鍍膜的作用

2020-11-14 11:37:37

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真空鍍膜的作用主要是使鍍膜表面具有高的金屬光澤和鏡面效果，特別是汽車燈罩，具有非常重要的聚光效果；其次，使鍍膜表面具有極好的阻隔性，提供優良的電磁屏蔽和導電效果。根據氣相金屬生成方式和沉積方式的不同，真空鍍膜分為兩種工藝：熱蒸發鍍膜法和磁控濺射鍍膜法。而磁控濺射法由于鍍層與基體結合力強，鍍層致密、均勻，因而更具技術優勢。負壓電鍍技術是指在真空環境中，某些金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬)，屬于物理氣相沉積工藝，由于通常是鋁、錫、銦等金屬的鍍層，所以又稱負壓金屬化。

本工廠現場1（輪播圖） - 副本.JPG

磁控濺射法是一種物理氣相沉積法，用于制備各種材料的薄膜，如金屬，半導體，絕緣體等。鍍膜過程中，鍍速與濺射功率、濺射時間、靶材到基片的距離、工作氣壓等因素都會影響鍍膜質量和厚度。磁控濺射法鍍膜時，由于耗靶量增大，耗靶量增大，靶基間距增大，當其他參數相同時，鍍膜性能逐漸下降，不符合要求。在均勻的磁場作用下，薄膜的均勻性受到磁場的影響，磁場不均勻會引起薄膜位置的偏移。

磁控濺射是70年代在陰極濺射基礎上發展起來的一種新的濺射鍍膜方法，因其有效地克服了陰極濺射速率低、電子使襯底溫度升高等缺點而得到了迅速發展和廣泛應用。