電鍍行(xing)業大的問題(ti)是(shi),技術更新太快,沒有一(yi)個行(xing)業能持續超(chao)過(guo)十年(nian)的增長,這樣(yang)我們(men)就可以安全(quan)退休了。我的應對(dui)方法如下,有些效果,你也試一(yi)試吧。
真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,是一種基于真空技術,利用物理或化學方法,吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的新工藝.簡言之,就是將金屬、合金或化合物在真空中蒸發或濺射,使之凝固并沉積在被鍍膜物體(稱為基板、基片或基體)上的方法。
真空鍍膜一般由金屬材料鍍出的膜厚度約為3-5微米.光學鍍膜的膜厚度測試可在鍍膜機的中央安裝一臺膜厚測試儀.早期采用光控測試,現在一般采用晶振片,采用晶振片振動的頻率來測試鍍膜的厚度.不同膜層厚度不一樣。
我們生產的真空鍍膜設備有:電阻蒸發式真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、磁控濺射鍍膜設備、多弧離子真空鍍膜設備、多功能真空鍍膜設備、真空焊接專用設備等。各種真空鍍膜設備廣泛應用于家用電器,鐘表,玩具,車燈燈罩,手機,工具,陶瓷,瓷磚,塑料,玻璃,五金,光學,電子等高科技行業,已成功地開發出滿足客戶不同需求的鍍膜工藝方案。