真空鍍膜設備離子鍍膜上的創新方法

2021-06-19 17:30:34

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真空電鍍設備多弧(hu)離子電(dian)(dian)鍍(du)(du)(du)(du)上的(de)創(chuang)新方法，多弧(hu)離子電(dian)(dian)鍍(du)(du)(du)(du)是指將電(dian)(dian)鍍(du)(du)(du)(du)材(cai)(cai)料(liao)和電(dian)(dian)鍍(du)(du)(du)(du)基板放在室內，真空電(dian)(dian)鍍(du)(du)(du)(du)機(ji)多弧(hu)離子電(dian)(dian)鍍(du)(du)(du)(du)采用一(yi)定的(de)方法加(jia)熱電(dian)(dian)鍍(du)(du)(du)(du)材(cai)(cai)料(liao)，蒸發(fa)或(huo)升華，飛(fei)濺到電(dian)(dian)鍍(du)(du)(du)(du)基板表(biao)面凝(ning)聚成膜的(de)技術。

多(duo)弧離子電鍍的(de)方法，在條件(jian)下成膜有很多(duo)優點(dian)，可以減少(shao)(shao)蒸(zheng)(zheng)發材料的(de)原(yuan)子、分(fen)(fen)子在飛(fei)向基(ji)(ji)板的(de)過程(cheng)中與分(fen)(fen)子的(de)沖突，減少(shao)(shao)氣(qi)體中的(de)活性分(fen)(fen)子和(he)蒸(zheng)(zheng)發源材料之(zhi)間的(de)化學反(fan)應(ying)(氧化等)，減少(shao)(shao)成膜的(de)過程(cheng)中氣(qi)體分(fen)(fen)子進入基(ji)(ji)板成為雜質的(de)量，提供(gong)基(ji)(ji)板的(de)致密度、純度、沉積速度和(he)基(ji)(ji)板的(de)附(fu)著(zhu)力。

真空鍍膜設備創新方法

真空電鍍設備多弧離子電鍍技(ji)術(shu)(shu)不(bu)僅避免了傳(chuan)統(tong)表面(mian)處理的不(bu)足(zu)，而(er)且各技(ji)術(shu)(shu)指標優(you)于(yu)傳(chuan)統(tong)技(ji)術(shu)(shu)，廣泛應用于(yu)五金(jin)、機械(xie)、化工、模具、電子、儀器等領域。催化液(ye)與傳(chuan)統(tong)處理技(ji)術(shu)(shu)相(xiang)比，技(ji)術(shu)(shu)上有(you)什(shen)么創(chuang)新？

1、多弧離(li)子(zi)電(dian)鍍(du)(du)不用(yong)電(dian)，降低成(cheng)(cheng)本，成(cheng)(cheng)本僅為多弧離(li)子(zi)電(dian)鍍(du)(du)鎳的(de)(de)二分之(zhi)一(yi)，真(zhen)空電(dian)鍍(du)(du)機多弧離(li)子(zi)電(dian)鍍(du)(du)鉻的(de)(de)三分之(zhi)一(yi)，不銹鋼的(de)(de)四分之(zhi)一(yi)，可以(yi)反(fan)復利用(yong)，大幅度降低成(cheng)(cheng)本。

2、多弧離子(zi)電(dian)鍍操(cao)作簡單(dan)，工藝簡單(dan)，將金屬基件(jian)浸入(ru)混合液(ye)體中一泡(pao)即可，需要(yao)再加工時不予處理(li)。

3、多弧離子鍍膜無污染，無毒(du)無味，無三廢排放，屬(shu)國家環保(bao)產品工藝。

4、多弧離子電(dian)鍍(du)處理方便(bian)，易于使用的(de)形(xing)狀(zhuang)復雜的(de)金(jin)屬基件均可(ke)處理。

5、多(duo)弧(hu)(hu)離子(zi)電鍍硬度(du)(du)大，硬度(du)(du)增(zeng)強，催化液(ye)泡過的金屬基件硬度(du)(du)是多(duo)弧(hu)(hu)離子(zi)電鍍技(ji)術(shu)的數倍。

6、多弧(hu)離子電鍍(du)不(bu)(bu)生(sheng)銹，浸泡在催化液(ye)中的金屬(shu)基件滲透到(dao)表皮(pi)中，不(bu)(bu)脫(tuo)皮(pi)，不(bu)(bu)脫(tuo)落。