磁控濺射真空鍍膜機
磁控濺射 法是(shi)一(yi)種 涉及(ji) 氣(qi)體(ti) 等(deng)(deng)離(li)子體 的(de)沉(chen)積(ji) 技術(shu) ,產生(sheng) 的等離(li)子 氣被限(xian)(xian)制(zhi)(zhi) 在含(han)(han)有 待沉積 物(wu)質(zhi) 的空(kong)間里 ,而濺射靶 的(de)表面 被等離(li)子(zi)(zi)體 中的高能 離子(zi) 所(suo)侵(qin)蝕 ,這(zhe)(zhe)些 等離子體 釋放 的原(yuan)(yuan)(yuan)子(zi) 穿(chuan)(chuan)過(guo) 真(zhen)空環境 ,再沉(chen)積 到基(ji)片(pian)(pian) 上形(xing)成(cheng)(cheng) 薄膜(mo) 。
磁(ci)控濺射 膜(mo)性能 的影(ying)響原因
濺射 功率 的影(ying)響(xiang) :當(dang)基體(ti) 和涂(tu)層(ceng)(ceng)(ceng) 材料 確定 時,工(gong)(gong)藝 參數(shu) 的選擇(ze)(ze) 對涂層(ceng) 的生(sheng)長 速(su)(su)(su)度(du) 和(he)涂層 質(zhi)量(liang) 都有(you) 很(hen)大(da) 的影響 .濺(jian)射(she) 功(gong)率 的(de)設置 對(dui)涂(tu)層(ceng)(ceng) 生(sheng)長(chang) 速度 和涂(tu)(tu)層 質(zhi)量(liang) 都(dou)(dou)有(you)(you) 很大(da)(da) 的影響 。
氣(qi)壓(ya) 效應 :磁(ci)控(kong)(kong)濺(jian)射 是在(zai)低氣(qi)壓(ya) 下進行 的高速 濺射 ,因(yin)此(ci) 必須(xu) 提高 氣(qi)體 的(de)離化率,使(shi)之(zhi)形成(cheng)(cheng) 等離子(zi)(zi)體(ti) .為了(le) 保證(zheng) 濺射 功率(lv) 固定 ,需分析 氣(qi)壓(ya) 效(xiao)應 對磁(ci)控(kong)濺射(she) 的影響 。
產(chan)品(pin) 具有(you) 磁控濺(jian)(jian)射 膜的優點(dian) 。
(1)無(wu)(wu)論(lun) 熔化 溫(wen)(wen)度 如何(he)(he) ,幾(ji)(ji)乎(hu)(hu) 所(suo)有 材(cai)料 都可(ke) 通過 磁控濺(jian)射 法沉(chen)積(ji)
(2)可根(gen)據 基(ji)材 和涂(tu)層 的(de)要(yao)(yao)求(qiu) 調(diao)整(zheng)(zheng) 光源(yuan) ,并(bing)將其放置(zhi)(zhi) 在腔內(nei)的任何 位(wei)置
(3)可沉積(ji) 合(he)金(jin) 和(he)化合(he)(he)(he)物(wu) 的薄(bo)膜(mo) ,但成分(fen)(fen) 與原(yuan)材料 相似(si)
產品(pin)特性的磁(ci)控(kong)濺射(she) 鍍(du)膜(mo) 。
一、磁(ci)控(kong)(kong)濺(jian)射(she) 中的環形 磁(ci)場(chang) 沿環(huan)形(xing) 磁(ci)場 旋(xuan)(xuan)轉 ,迫(po)使 二次(ci)電(dian)子(zi)(zi) 沿該磁場 旋轉(zhuan) 相應(ying) 地(di),環(huan)形 磁場(chang) 控(kong)制(zhi) 的區(qu)域 是等(deng)離(li)(li)子(zi)體 密度 高 的地方(fang) .在(zai)磁(ci)控(kong)(kong)濺(jian)射(she)(she) 過(guo)程(cheng) 中,就 看到 濺射 氣(qi)體(ti)(ti) -氬氣(qi) 在該部(bu)位(wei) 發出 強(qiang)烈 的淡藍色 輝(hui)光 ,形成 光環 .當靶材 被(bei)離(li)子轟擊 得(de)強烈時,它會濺(jian)射(she) 出(chu)一條 環形 溝槽 .環形(xing) 磁場 是電(dian)子(zi)(zi) 運(yun)動 的軌道(dao) ,由磁控濺(jian)射 靶的濺射 溝(gou)槽 形象(xiang) 地(di)顯示(shi)(shi) 出(chu)來 .磁控(kong)濺射(she) 靶的濺(jian)射 溝槽 一旦 穿(chuan)(chuan)透 靶材 ,會 導(dao)致(zhi) 整(zheng)個(ge)(ge) 靶(ba)材 報(bao)廢 ,因(yin)此(ci) 靶(ba)材(cai)(cai) 的利(li)用率(lv)低 底,一般 低于百分之四(si)十 百分之;
不(bu)可以可(ke)實(shi)現 強磁(ci)性材料(liao) 的低(di)(di)溫(wen) 高速(su) 濺(jian)射(she) ,因為(wei) 差不(bu)多 所(suo)有(you)(you) 磁通量 都(dou)不可(ke)以過 磁靶,因此 在(zai)靠近(jin) 靶(ba)標(biao) 表(biao)面(mian) 的地方(fang) 不可以再加(jia)強 磁場(chang) 。
磁控(kong)制 濺(jian)(jian)射 膜(mo)的應用 范(fan)(fan)圍
5、在玻璃深加工產業中的應用
磁控(kong)制(zhi) 濺射(she) 膜的注(zhu)(zhu)意(yi)事(shi)(shi)項(xiang)
1,在鋁合金 制(zhi)品(pin) 裝(zhuang)飾(shi)裝(zhuang)修 中(zhong)的應用(yong) 。
高(gao)檔(dang)(dang) 產(chan)品(pin) 零(ling)配(pei)件(jian) 表(biao)面(mian) 裝(zhuang)飾(shi) 鍍層 的應用 。在(zai)不(bu)銹(xiu)鋼 刀片 涂(tu)(tu)裝(zhuang)工藝 中的應用(yong) 。在(zai)玻(bo)璃深加(jia)工 行業(ye) 中(zhong)的(de)應用 情(qing)況 。輻射 :一些 鍍(du)膜 用(yong)到(dao) 射頻 電源 上,如功率 大,須作屏蔽 處理 .此外(wai) ,歐洲標準的單室 鍍膜機 門框(kuang)(kuang) 內嵌(qian) 裝金(jin)屬(shu)線 以屏蔽 輻(fu)射 。
2、金(jin)屬 污染(ran) :鍍(du)膜(mo) 材(cai)料 (如鉻、銦、鋁等)對(dui)人體(ti) 有(you)害 ,尤(you)(you)(you)其 要注意 真空(kong)室(shi) 清(qing)理 過(guo)(guo)程 中產(chan)(chan)生(sheng) 的粉塵(chen) 污染 。
3、噪音(yin)污(wu)染 :如(ru)特別 是一些 大型 鍍(du)膜(mo)(mo)設(she)(she)備(bei) ,機械 真(zhen)空(kong)泵(beng)(beng) 噪音 大,可(ke)將泵隔絕(jue) 于墻外 。
4、光污(wu)(wu)染 :離(li)子(zi)(zi) 鍍(du)(du)膜 過程(cheng) 中,氣體 電(dian)離(li) 放(fang)出(chu) 強光 ,不宜 長(chang)(chang)時間(jian) 透過觀察(cha)窗久看(kan).