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真空鍍膜設備主要是指需要在高真空度下進行的鍍膜，包括多種，包括多弧離子真空鍍膜設備、真空離子蒸發、光學鍍膜機、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。真空鍍膜的工作原理是薄膜在高溫下蒸發，落到工件表面結晶。因為空氣會對蒸發的膜分子產生阻力，造成碰撞，使晶體變得粗糙、暗淡，所以需要在高真空下使晶體變得細小、光亮。真空度不高，晶體會失去光澤，結合力差。早期真空鍍膜依靠蒸發物的自然散射，結合效率差，光澤度差。現在，隨著中頻磁控濺射靶的加(jia)入，膜(mo)體(ti)的蒸發分子在電場的作(zuo)用(yong)下受到靶(ba)(ba)材(cai)的轟擊，大量(liang)的靶(ba)(ba)原子被濺射(she)出來，中性(xing)的靶(ba)(ba)原子(或分子)沉(chen)積在襯底上形成薄膜(mo)，解決了(le)以往自然蒸發無法處理的膜(mo)體(ti)品種，如鍍鈦(tai)、鍍鋯等問題。
目前，真空技術在石油、化工、冶金等行業的真空蒸發、結晶、蒸餾、升華、干燥、負壓濃縮、脫水、化學反應吸收和真空輸送過程中的應用越來越廣泛。真空技術應用于各種加工工藝后，可以節能降耗，加快反應速度，提高產品質量，增加經濟效益，并逐漸形成共識。但真空技術是一門邊緣科學，解放后中國的真空產業消化吸收了。蒸汽噴射真空泵具有(you)高真空、低能耗、運行(xing)穩定、無機械摩擦、使用壽命長、設(she)備(bei)(bei)安全等優點(dian)。在高真空要求的工作系統中，蒸汽噴射(she)真空泵(beng)通常是選(xuan)的真空泵(beng)設(she)備(bei)(bei)。
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